2022.10.27
2022年10月25日至10月26日，以“創(chuàng)新強(qiáng)鏈，雙驅(qū)發(fā)展”為主題的2022年中國(guó)（深圳）集成電路峰會(huì)（以下簡(jiǎn)稱: ICS 2022峰會(huì)）在深圳坪山格蘭云天國(guó)際酒店隆重舉行，屆時(shí)將有眾多國(guó)內(nèi)外專家學(xué)者、技術(shù)大咖和行業(yè)領(lǐng)袖匯集于此，共同探討新形勢(shì)下集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展機(jī)遇。
本次峰會(huì)由一個(gè)全球直播、兩個(gè)主論壇、三個(gè)閉門會(huì)議、八個(gè)平行專題論壇組成，同時(shí)設(shè)有技術(shù)產(chǎn)品展。主題演講環(huán)節(jié)內(nèi)容豐富、異彩紛呈，我們將對(duì)此進(jìn)行專題預(yù)告，一起來(lái)圍觀吧!
掩模版(mask) 簡(jiǎn)稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計(jì)圖形，光線透過(guò)它，把設(shè)計(jì)圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。在投影式光刻機(jī)中，掩模作為一個(gè)光學(xué)元件位于會(huì)聚透鏡 (condenser lens) 與投影透鏡(projection lens) 之間，它并不和晶圓有直接接觸。掩模版主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體、觸控和電路板的制造過(guò)程，是必不可少的關(guān)鍵材料之一。隨著晶圓廠的快速擴(kuò)產(chǎn)，芯片公司不斷推出新的產(chǎn)品料號(hào)，對(duì)于掩模版的產(chǎn)品需求大幅增加，有望推進(jìn)市場(chǎng)空間與國(guó)產(chǎn)替代的雙重增長(zhǎng)。
在本屆ICS2022峰會(huì)上，深圳市龍圖光罩股份有限公司副總經(jīng)理王棟將發(fā)表《半導(dǎo)體掩模版與制作流程介紹》的主題演講，重點(diǎn)分享介紹什么是半導(dǎo)體掩模版？掩模版制作流程是怎樣的?以及受益于半導(dǎo)體和顯示板行業(yè)的快速發(fā)展，作為不可或缺的重要電子元器件，龍圖光罩如何把制作能力與未來(lái)高端光導(dǎo)體掩模規(guī)劃聯(lián)合發(fā)展。
嘉賓介紹
王棟，男，從事掩模版行業(yè)十五年，任深圳市龍圖光罩股份有限公司副總經(jīng)理。
關(guān)于龍圖
深圳市龍圖光罩股份有限公司是一家集研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造和銷售于一體的專業(yè)制作半導(dǎo)體掩模版的國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)，2022年通過(guò)國(guó)家專精特新“小巨人”企業(yè)認(rèn)定。公司以0.8μm-0.134μm半導(dǎo)體掩模產(chǎn)業(yè)化制造技術(shù)，為國(guó)內(nèi)IC設(shè)計(jì)、IC晶圓制造提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品與服務(wù)。目前公司聚焦于IC集成電路、功率半導(dǎo)體(含第三代半導(dǎo)體) 、MEMS、先進(jìn)封裝等行業(yè)，產(chǎn)品處于國(guó)內(nèi)掩模版行業(yè)先進(jìn)水平。公司以國(guó)際一流半導(dǎo)體掩模版企業(yè)為標(biāo)桿，在軟硬件方面積極開展創(chuàng)新研發(fā)，取得授權(quán)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)總數(shù)為64項(xiàng)，其中發(fā)明專利10項(xiàng)，實(shí)用新型專利23項(xiàng)，計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)31項(xiàng)。公司通過(guò)IS09001質(zhì)量管理體系認(rèn)證、IS014001環(huán)境管理體系認(rèn)證、IS027001信息安全管理體系認(rèn)證。并在生產(chǎn)和運(yùn)營(yíng)中導(dǎo)入TQM、零缺陷管理等國(guó)際先進(jìn)的管理方法與管理工具。
文章轉(zhuǎn)自： 深圳市半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)公眾號(hào)
