石英掩模版（Quartz Mask）以高純石英玻璃為基材，石英玻璃具有高透過率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點，同時成本較高，通常應用于高精度掩模版產(chǎn)品。石英掩模版主要在半導體應用領域內(nèi)使用，包括模擬IC、各種分立器件、MEMS以及平板顯示等。
公司可提供多種尺寸和規(guī)格的光罩產(chǎn)品，制作精度覆蓋130nm、180nm、250nm、350nm、500nm及以上芯片工藝節(jié)點，具體如下表所示：
| ITEM | Rank | S | Y | A | B | C | D | E | F | G | H | I |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Design Rule | (μm) | ＞5 | 2-5 | 1-2 | 1 | 0.8 | 0.5 | 0.35 | 0.25 | 0.18 | 0.15 | 0.13 |
| CD Tolerance | (±μm) | ±0.5 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.075 | ±0.05 | ±0.04 | ±0.03 | ±0.025 | ±0.02 |
| CD Range | (μm) | ≤0.5 | ≤0.3 | ≤0.2 | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0.07 | ≤0.05 | ≤0.04 | ≤0.035 | ≤0.03 | ≤0.025 |
| CD mean to target | (μm) | ±0.5 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.1 | ±0.07 | ±0.04 | ±0.03 | ≤0.03 | ±0.02 | ±0.02 |
| Registration & Overlay | Based on the 1st layer(μm) | ±0.5 | ±0.3 | ±0.2 | ±0.15 | ±0.12 | ±0.10 | ±0.07 | ±0.05 | ≤0.04 | ±0.03 | ±0.02 |
| Defect | Defect size(μm) | ＜4 | ＜2 | ＜1.0 | ＜1.0 | ＜0.75 | ＜0.5 | ＜0.4 | ＜0.3 | ＜0.3 | ＜0.25 | ＜0.20 |
