Mask Design Rule Check
圖形檢查處理服務(wù)(MRC)
公司提供Mask Design Rule Check服務(wù),客戶可通過MRC對數(shù)據(jù)進行規(guī)則檢查,MRC與芯片設(shè)計公司所使用DRC類似,可針對細微區(qū)域偵測異常設(shè) 計,防止流片過程中異常情形的發(fā)生;此外,公司還可提供Format Transferring, Floor Plan, Bias, Mirror, Scaling, Reticle Alignment Mark, Barcode等數(shù)據(jù)處理服務(wù)。